光學鏡片清洗需要使用高純度的水來確保鏡片表面無塵、無雜質，以免影響其光學性能。超純水設備可以滿足這一需求，以下是一般用于光學鏡片清洗的超純水設備的組成部分：

預處理系統：類似于半導體生產用超純水設備，預處理系統用于去除水中的懸浮固體、有機物和大部分離子。這可以通過過濾器、活性炭吸附器和軟化器等組件來實現。

反滲透系統（RO）：反滲透系統通過半透膜去除水中的離子、微生物和有機物等雜質。RO系統可以有效地提供高純度的水，用于后續的處理。

電離交換系統（DI）：電離交換系統進一步去除水中的離子，以獲得更高純度的水。這通常通過使用具有離子交換功能的樹脂來實現。

純化系統：純化系統用于進一步去除殘留的離子、有機物和微生物等。混床交換、超濾、紫外線滅菌和臭氧氧化等方法常用于提高水的純度。

微生物控制系統：光學鏡片清洗需要確保水中的微生物質量符合要求，因此超純水設備可能包括微生物控制系統，如臭氧滅菌、紫外線消毒和微孔過濾等。

超純水設備的設計和配置可能因應用而有所不同，針對光學鏡片清洗，可以根據具體要求進行定制。關鍵是確保所使用的超純水能夠滿足光學鏡片清洗的高純度要求，確保鏡片表面干凈無污染，以保證光學性能的最佳表現。