在半導體工業不斷發展的今天，超純水機所制取的水被完全融入到各個化學處理以及化學沖洗等多個步驟中。生產過程中為了消除感染物，準備生產處理所需的表面，晶片通常需要充分的清洗。取決于生產類型方面的不同，這些水處理過程可以看整個生產處理步驟的3/1.一個廠每月生產的晶片有4萬個左右，每天所用掉的水就會有7~11百萬立方的水，其中超純水所占的比例就有70%。

超純水為什么主要測量的是溶解氧和臭氧呢？

1、減少超純水的污染程度。

2、能夠有效的增長半導體的產出效果。

3、在臭氧過程中，因為臭氧應用不需要污染物，所以必須保持一部分的濃度。

實驗室超純水機的應用主要在以下幾個關鍵點：

感染微生物會在半導體表面造成不利的電路，造成短路且形成無法使用的芯片。

有機物所留下的粒子會對生產過程以及芯片質量造成一定的影響。

過高的溶解氧會潛入改變氧化面的厚度，從而改變集成電路板的特性。
當放入水中的晶體時，溶解氧會使其厚度增加，因而濃度需要降低的能夠接受的范疇。

當芯片的晶體管密度增加，晶體管的寬度就會降低，水質要求就會變得尤為重要。常規來說微型芯片被裝入越小的設備，給生產商帶來的挑戰也就越大，包括超純水提供的關鍵要素。近幾年工業技術也是越來越快速，純凈要求也在不斷的提升，盡量減少產后的問題，因而發展趨勢減少超純水中有機物和無機污染，就顯得非常重要，需要保持溶解氧的濃度在0.1~1.0PPB之間。